Novol Novakryl HS – предназначенный для профессионального применения лак на основе качественного акрила. Он относится к категории 2K – двухкомпонентных продуктов, требующих добавления отвердителя. Маркировка HS в названии указывает на высокое содержание твёрдых частиц в составе, что гарантирует повышенную твёрдость покрытия.
Двухкомпонентная система предполагает смешивание двух частей лака с одной частью отвердителя. Последний может быть стандартным, быстрым или медленным. Выбор зависит от условий применения продукта, например, размеров покрываемых поверхностей, рабочей температуры нанесения.
Лак Novol Novakryl HS имеет следующие плюсы:
•    быстрое высыхание, упрощающее ремонт и сокращающее время пребывания мастера в лакировочной камере;
•    стойкость к ультрафиолетовым прямым лучам, к прочим атмосферным явлениям;
•    хорошая совместимость с различными доступными на рынке России базовыми лаками с разбавительной или водной основой;
•    повышенная прочность;
•    лёгкое использование благодаря отличной растекаемости;
•    устойчивость к возникающим из-за механических повреждений сколам, царапинам;
•    безопасность благодаря соответствию нормам содержания летучих органических веществ;
•    возможность применения для ремонтных, малярных, реставрационных, отделочных, покрасочных работ по пластмассам, дереву, металлу, бетону;
•    глубина покрытия и его блеск, придающие эстетичность, привлекательный внешний вид.
Нанесение выполняется с помощью специализированного инструмента – распылительного пистолета с гравитационным питанием. Рекомендуемое количество слоёв толщиной 30-35 мкм без добавления разбавителя – 1,5. Если используется разбавитель, то наносится 2 или 3 слоя, а толщина каждого сокращается до 20-30 мкм.
При использовании стандартного отвердителя и сушке при нормальной температуре 20 градусов Цельсия просыхание на отлип достигается через 3 часа, пылесухость – спустя 25 минут, рабочая твёрдость – через 14 часов, а полная – спустя неделю. Допустима сушка с помощью инфракрасной лампы, но не раньше, чем через 10 минут после формирования последнего слоя.